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      等離子清洗機的清洗原理

      更新時間:2024-04-09瀏覽:1934次

        進口等離子清洗機的清洗原理是在真空腔體里,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產品表面,以達到清洗目的。
       
        真空等離子清洗機由真空發生系統、電氣控制系統、等離子發生器、真空腔體及相關機械等幾個部分構成。應用時可以根據客戶的要求定制符合客戶需要的真空等離子清洗機。
       
        真空等離子清洗機利用兩個電極形成電磁場,用真空泵實現有效的真空度,隨著氣體越來越稀薄,分子之間的間距及分子或離子的自由運動的距離也越來越長,受磁場作用發生碰撞而形成等離子體并產生輝光。等離子體在電磁場內的空間運動,并不斷轟擊被處理物體表面,去除表面油污以及表面氧化物、灰化表面有機物以及其它化學物質,以此達到表面處理清洗和刻蝕的效果。
        
        真空離子清洗機廣泛應用于表面去污及等離子刻蝕,聚四氟(PTFE)及聚四氟混合物的刻蝕、塑料、玻璃、陶瓷的表面活化和清洗、等離子涂鍍聚合等工序,因此廣泛應用于汽車領域、電子領域、電子領域、PCB制成行業等高精密度領域。
       
        在這種情況下,等離子處理可以產生以下效果:
       
        1、灰化表面有機層
       
        污染物在真空和瞬時高溫下的部分蒸發,污染物被高能離子粉碎并被真空帶走。
       
        紫外輻射破壞污染物,由于等離子體處理每秒鐘只能穿透幾納米,所以污染層不應該太厚。指紋也適用。
       
        2、氧化物去除
       
        這種處理包括使用氫或氫和氬的混合物。有時也采用兩步流程。第一步是用氧氣氧化表面5分鐘,第二步是用氫和氬的混合物除去氧化層。它也可以同時用幾種氣體處理。
       
        3、焊接
       
        通常,印刷電路板應在焊接前用化學藥劑處理。焊接后,這些化學物質必須用等離子體法去除,否則會引起腐蝕和其他問題。
       

       

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